80年代以前銅門銅藝的材料硫酸銅（簡稱酸性銅）之鍍銅制程，只出現于裝飾光亮鎳前的打底用途。85年以后由于PCB所用高溫焦磷酸銅之差強人意，才逐漸改采低溫之硫酸銅，也才使得此種未被青睞的璞玉渾金終于有了發光的機會。不過其基本配方卻也為了因應穿孔的分布力，與提高延性（Elongation或稱延伸率）之更佳境界起見，而被改為酸銅比甚高 （10:1）的新式酸性銅了。

時至2001以來，由于水平鍍銅的高電流密度需求，以及面對盲孔填平的**新挑戰起見，于是其之酸銅比又走回頭路而往先前裝飾銅的1：1目標逐漸下降。此種裝飾酸性銅**大的特點就是“微分布力”（Microthrowing Power）非常好，對于表面刮傷與凹陷等瑕疵很容易予以愈合抹平，于是使得3mil以下小淺盲孔的填實大為受惠。且由于孔長對孔徑的縱橫比還很低，故被熱應力拉斷的可能性也不大。然而一旦微盲孔的口徑到達6mil以上甚至二階深盲孔時，其填平機率即大幅降低，此一困難目前尚未克服.